由于集成电路的结构通常非常精细,因此需要用无杂质的超纯水进行清洗。传统的超纯水制取方法主要有:蒸馏法和离子交换法等。蒸馏法要求设备严密,产量低、能耗比较高。离子交换法再生失效的离子交换树脂需要大量酸碱溶液和大量的清洗水,劳动强度大。随着电镀行业的不断发展,对纯水的水质要求越来越高,这些传统方法不适合单独使用来生产纯度很高的超纯水。
莱特莱德超纯水设备可以连续稳定的制备品质优良的超纯水,不会因为树脂再生而停止运行,设备结构设计相对靠紧,其占地非常小,可以为企业节省很多空间,超纯水设备在出厂前均需进行试压,所以设备故障几率较小,日常保养、维修等操作都非常简单。芯片超纯水设备内部还安置有反渗透预脱盐技术,再次从根本上行保障了水处理设备的出水水质。
超纯水设备在设计上采用成熟、可靠、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺,确保处理后出水电阻率达到18 MΩ.CM以上。设备内部还安装有反渗透预脱盐技术,再次从根本上行保障了设备的出水水质,与此同时,EDI处理装置废水产出量少,不会对环境造成污染,有非常高的环境效益、经济效益。
随着国家集成电路扶持政策的渐次落地,再加上智能手机芯片国产化替代加速,国内集成电路产业也有望迎来“黄金十年”。